電鍍砝碼理論知識 砝碼鉻鍍層的特征 1、鉻鍍層的物理性能及化學性能 鉻鍍層的顏色為略帶淺藍色的銀白色。鉻鍍層有優(yōu)秀的特征，比如，硬度高、耐熱、耐酸、耐堿、耐硫化物、耐有機酸、順磁、不變色;鉻鍍層的摩擦系數(shù)低，特別是干摩擦系數(shù)在所有金屬中是的，所以，鉻鍍層擁有很好的耐磨性;鉻鍍層與橡膠、膠木、塑料等非金屬資料黏附力差。所以，這種資料的模具采納電鍍鉻后簡單脫模，且模具表面粗拙值越小，壓制產(chǎn)品的亮度越高、越雅觀，模具使用壽命也可提升。 2、鉻鍍層的硬度和應力 在正常鍍鉻工藝條件下，鉻鍍層硬度為HRC55~HRC65和HV750~HV1200。電鍍鉻比由高溫治金法獲取的金屬鉻硬度高得多，最硬的鉻鍍層可達到剛玉的硬度，比其余的現(xiàn)有電鍍層硬度都高。比如，它是鐵、鈷和鎳硬度的 2倍左右。它的硬度比經(jīng)過滲碳、滲氮、碳氮共滲、硬化辦理的鋼以及經(jīng)過熱辦理的合金構造鋼的硬度都高。電鍍時的氫、外來離子的性質、內(nèi)應力增添是鉻鍍層擁有高硬度的主要要素。資料抵擋硬物壓入表面的能力叫做硬度。在測定鍍層硬度時，常使用維氏硬度計，可依據(jù)鍍層厚度只要 5~ 200gf 的小壓荷使壓痕深度達到鍍層厚度的 1/7~ 1/10，在鍍層斷面上測定硬度時，能夠針對鍍層厚度選擇適合的壓荷， 測度方法相同， 測出的硬度偏差較小。 加厚鉻鍍層假如大于100m 時可采納洛氏硬度計，在非工作面長進行測定鉻鍍層硬度。這種方法測準時能夠直接看出鉻鍍層的硬度，使用較方便。在電鍍過程中，因為各種原由惹起鍍層品體構造的變化，常會使鍍層有伸長或縮短的趨向，但因鍍層已被固定在基體上，促進鍍層處于受力狀態(tài)，這種作用于鍍層單位面積的力稱為內(nèi)應力。在鍍鉻過程中應力的產(chǎn)生，主假如電析應力。鉻鍍層結協(xié)力很好，2940Mpa 以上的而在早期電析應力特別大，能夠察看到張應力，同時跟著鍍層的增厚其實不會轉變?yōu)閴簯?，但這些都不影響鉻鍍層的結協(xié)力。所以鉻鍍層結協(xié)力差，主假如因為基體表面潔凈工作沒有做好，而電析應力不是致使結協(xié)力差的原由。 3、鉻鍍層的耐磨性 鉻鍍層因為有其特別的構造而形成很高的硬度，因為硬度高，使耐性也提升。但鉻鍍層的耐磨性利害，不只是是硬度，還有金屬的延展性和彈性等也是耐磨性的決定要素。經(jīng)過試驗以為鉻鍍層的維氏硬度為HV750~HV800 時擁有較大的耐磨性。鍍鉻層厚度與耐磨性有必定關系，同時對使用壽命也有直接的影響。使用壽命與厚度固然不完整成比例關系，可是厚度減小，使用壽命就會大大縮短。假如考慮表面耐性，則要示鉻鍍層厚度大于受沖擊的部件，鉻鍍層厚度不該小于15 μm。關于鋁合金的熱沖模，鍍鉻后能降低黏附性，以上壓模鉻鍍層厚度往常為10~20m。橡膠模具和塑料模具鉻鍍層厚度只需求3~5μm即可，橡膠模具和塑料模具經(jīng)鍍7.5 um。
對比是低的。砝碼鉻鍍層與鋼鐵資料的摩擦系數(shù)為 鍍鉻溶液的構成 1、鉻酐(CrO3)(分子量:76) 鉻酐的水溶液是鉻酸，它是電解液的主要成分。因鍍鉻工藝采納不溶性陽極，所以它是鉻層的來源。鍍硬鉻所用的電解液含鉻酐量一般在 200g~ 300g 之間，在標準鍍鉻電解液中含鉻酐為250g ，此中大概含鉻 125gL 。 2、硫酸(H SO)(分子量:66)當有SO2-存在時，它與溶液內(nèi)的三價鉻生成復雜的含有硫酸和三價鉻的陽離子團這種陽離子團跑向陰極，促進堿性鉻酸鉻「Cr(OH)3fCr40(50 4)·(H20)41離子能在陰極1的薄膜溶解，使.Cr(OH)CrOCrO上放電析出金屬鉻。 當鍍鉻溶液的酸度為PH值為3時，能有堿式鉻酸鉻[Cr(OH)3·Cr(OH)CrO 4]的薄膜存在，沒有硫酸鹽該堿式鉻酸鉻的薄膜轉向陰極，并給它包上能透過氫離子的膠體薄膜。時，硫酸鹽的作用就是利用它的吸附作用，減低膠體的電流密度，防止在陰極上形成堅固附著的膠體層。 所以，在陰極表面上，其余離子就有了復原的可能。假如純真考慮到負電荷的 SO42-與陰極表面互相作用，則難以相信 SO4-離子能抵達陰極表面。因為硫酸根(SO42-)離子的尺寸不而電荷高，所以簡單被正電荷的膠體所汲取，并馬上與三價鉻生成綠色的而無反響能力的陽離子團[Cr4O(SO 4)4·(HO)4]2+，這種離子團能經(jīng)過薄膜而不發(fā)生明顯變化，抵達陰極表面以后，離子放電，而硫酸根離子變?yōu)橛坞x狀態(tài)。生產(chǎn)實踐證明，為了獲取高質量的鉻鍍層應十分注意鍍液中的鉻酐與催化劑的濃度比，而關于催化劑絕對含量相對而言其實不那么重要。當[CrO3]/[SO42-]為100:1 時，電流大。當[CrO3]/[SO42-]小于 100:1時，鍍層的光明性和致密性有所提升。但鍍液的電流效率和分別能力下降。當[CrO31TSO4--1小于或等于 50:1時，因為催化劑含量偏高， 使陰極膠體膜的溶解速度大于生成速度,陰極電勢達不到鉻的析出電勢，致使局部以致所有沒有鉻的堆積，鍍液的電流效率降低，分別能力明顯惡ICrO 342-化，并且鍍液顏色變暗，陰極鄰近產(chǎn)生渺小的氫氣泡;當]大于 100:1 時， SO 42含量不足,V/ISO200:1，SO42-含量嚴重不足，在鍍層上會產(chǎn)生黑色條紋,鍍層的光明性鍍液的電流效率降低;若比值超出銘鍍層表面會出現(xiàn)粗拙的小顆粒，光彩性差，鍍液顏色也會變淡，陰極鄰近將產(chǎn)生大批氫氣泡，并會產(chǎn)生剝落現(xiàn)象。因為SO4-含量太低，陰極表面上只有極少部位的膜被溶解，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地域放電長大，所以獲取的鍍層粗拙。
3、氟硅酸鈉(Na 2SiF6)(分子量:188) 氟硅酸根離子在電鍍過程中起著與硫酸根離子相像的作用，但氟硅酸根離子還有其獨到長處。比如，鉻鍍層簡單鈍化，常常在鍍鉻過程中電流中止或進行二次鍍鉻時，所獲取的鍍層為乳白色而無光彩:而有氟硅酸根離子存在時，所獲取的鉻鍍是光明的，因為它擁有使鉻鍍層表面活化的作用。采納含氟硅酸根離子的鍍液比標準鍍鉻溶液優(yōu)勝，當鍍液溫度在士 5℃時，相同能獲取光彩仔細的鉻鍍層，并且比標準鍍鉻溶液所獲取鉻鍍層光彩雅觀，為帶有淺藍銀白色的光明鉻鍍層。程正常進行。電解液的分別能力很低，不易獲取平均的鍍層。要想等到厚度平均的鍍層,，一定采納適合的夾具、象形陽極、協(xié)助陰極或絕緣障蔽等舉措。20A/dm 2以上;鍍鉻槽電壓較高，往常6~ 12V 。 4、鍍鉻使用的電流密度很高，電流密度常在 5、鍍鉻電解液的電流效率較低，一般鍍鉻電解液的電流效率在20% 左右。 6、陽極采納鉛、鉛一銻合金或鉛一錫合金等做不溶性陽極，不可以用金屬鉻作陽極。 7、工藝參數(shù)對鍍鉻層性質有影響，采納不一樣的電流密度和溫度，可獲取不一樣性質的鍍鉻層。鍍鉻過程還有三個特別現(xiàn)象:陰極電流效率隨鉻酸濃度的高升而降落，降溫度高升而降落，隨陰極電流密度的高升而高升。
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